在被恒溫恒濕試驗箱工作室內(nèi)定出上、中、下三個水平層面（簡稱上、中、下三層），上層與工作室頂面的距離是工作室高度的1/10，中層通過工作室?guī)缀沃行狞cO，下層在底層樣品架上方10mm處。
  恒溫恒濕試驗箱測量點分別位于上、中、下三層，如圖1和圖2。
  溫度測量點用O、A、B、C、D、E、F、G、H、J、K、L、M、N、U表示。
  相對濕度測量點用Oh、Dh、Hh、Lh表示。
  工作室容積不大于2m3時，溫度測量點為9個，相對濕度測量點為3個

(圖一)

(圖二)

  測量點O、Oh位于工作空間的幾何中心，其他各測量點與試驗設備內(nèi)壁的距離為各自邊長的1/10，但不小于50mm。
工作室容積大于2m3時，溫度測量點為15個，相對濕度測量點為4個，位置如圖2。
測量點E、O、Oh、U位于上、中、下層的幾何中心，其他各測量點與試驗設備內(nèi)壁的距離為各自邊長的1/10，但不小于50mm。
若測出的工作空間的基本參數(shù)不符合GB/T 2423.3、 GB/T 2423.4、 GB 2423.9 、GB 2423.16的要求且與測量點的位置有關(guān)時，可適當放寬6.3和6.4規(guī)定的1/10的距離，但應在檢定報告中予以記載。
當恒溫恒濕試驗箱工作室容積大于50m3時，溫度測量點和相對濕度測量的數(shù)量可適當增加。